上海集成电路材料研究院采用创新范式提高光刻材料研发效率

这个由中国科学院上海微系统与信息技术研究所和上海硅业集团有限公司联合发起的研究院，致力于衬底材料和工艺材料的研发和产业化，积极开展面向企业和产业化需求的技术研究。

例如，该所针对抛光垫，抛光液材料性质，抛光压力，抛光温度，抛光液流量等抛光工艺对大硅片平面度的影响，开发了一整套大硅片抛光液由该研究所技术建立的上海钱新集成电路有限公司第一个CMP抛光垫已正式出样

在光刻材料研发方面，该所采用创新范式提高材料研发效率，建立了光刻材料基因组该所以高通量材料制备平台，短流程器件工艺平台，高通量材料表征平台，材料性能数据库平台和材料模拟计算平台为支撑，与合作单位共同提高光刻材料的研发，筛选，优化和应用效率

面对前沿的材料技术，木材研究所和上海微系统公司资助的氮化铝薄膜材料基因组计划开发了具有嵌入式空腔的SOI衬底，并成功应用于制作全封闭式环栅器件。

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